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Effect of a TiO2 Buffer Layer on the Properties of ITO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
소개글 Author: Kim Daeil Organization: Kim Daeil Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 14, Issue5, p242~245, 25 Oct 2013
태그
  • ITO
  • TiO2
  • Magnetron sputtering
  • Figure of merit
  • Work function

저작시기 2013-08월

등록일 2016-07-17

파일형식 pdf

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