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A Study on Distributions of Boron Ions Implanted by Using B and BF2 Dual Implantations in Silicon
소개글 Author: Jung Won-Chae Organization: Jung Won-Chae Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 11, Issue3, p120~125, 25 June 2010
태그
  • B
  • BF2
  • F
  • Dual implantations
  • Secondary ion mass spectrometry
  • Computer simulation
  • Current-voltage
  • Capacitance-voltage

저작시기 2010-06월

등록일 2016-07-14

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