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Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma
소개글 Author: Woo Jong-Chang, Joo Young-Hee, Kim Chang-Il Organization: Woo Jong-Chang; Joo Young-Hee; Kim Chang-Il Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 13, Issue1, p6~9, 25 Feb 2012
태그
  • ZnO
  • ICP
  • OES
  • XPS
  • Cl2

저작시기 2012-02월

등록일 2016-07-15

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