카테고리
전체 > 전체

Dry Etching Properties of TiO2 Thin Film Using Inductively Coupled Plasma for Resistive Random Access Memory Application
소개글 Author: Joo Young-Hee, Woo Jong-Chang, Kim Chang-Il Organization: Joo Young-Hee; Woo Jong-Chang; Kim Chang-Il Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 13, Issue3, p144~148, 25 June 2012
태그
  • TiO2
  • XPS
  • AES
  • ICP
  • BCl3

저작시기 2012-06월

등록일 2016-07-15

파일형식 pdf

페이지 0페이지

가격 0원

다운로드
장바구니

최근 본 자료

추천 연관자료