카테고리
전체 > 전체

Study of Surface Reaction and Gas Phase Chemistries in High Density C4F8 O2 Ar and C4F8 O2 Ar CH2F2 Plasma for Contact Hole Etching
소개글 Author: Kim Gwan-Ha Publish: Transactions on Electrical and Electronic Materials Volume 16, Issue2, p90~94, 25 Apr 2015
태그
  • Contact hole etching
  • C4F8/O2/Ar plasma
  • High density plasma
  • XPS

저작시기 2015-04월

등록일 2016-07-20

파일형식 pdf

페이지 5페이지

가격 0원

다운로드
장바구니

최근 본 자료

추천 연관자료